제목
[공지] 신규 FIB 장비 (Hitachi NX5000) 사용 안내
작성자
관리자
등록일
2019-09-30
조회수
46

안녕하세요

 

 특성분석센터에 신규 FIB 장비가 도입되었습니다.

10월1일부터 장비의 예약을 받아서 분석 지원을 할 예정이오니

관심있으신 연구원분들의 많은 이용 부탁드립니다.


모델명: NX-5000 (Hitachi 사)

특이사항: Triple beam (E-beam, Ga ion beam, Ar ion beam)

             Ga 이온빔으로 TEM 시편제작하면서 발생되었던

             Ga redeposition, 두꺼운 비정질 막 생성, Ga과의 반응성이 강한 원소 문제등에 대한

             보완을 할 수 있다는 특이 사항이 있습니다.

장점: High resolution 관찰용 TEM 시편 제작에 특화되어있음

단점: 표면 단차가 있는 시료의 경우 시편 제작에 어려움이 있음


분석 지원: 10월 1일 부터 개시

담당자: 박기훈 (02-958-5907)

분석의뢰서의 장비명: FIB (Hitachi-NX5000)

비용: 10,11월은 기존 FIB 이용수가와 동일하게 적용하여 시범운영 할 계획이오나,

        그 이후에는 Ar 이온빔 선택 추가비용이 발생될 예정입니다.

        이용 수가 안내는 향후에 다시 공지하겠습니다.

*시편 제작 관련 전화 상담 필수


감사합니다.


이지영 드림